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ビームトロン社製 超高真空成膜装置


 準備室が付属した分子線エピタキシー(MBE)装置。ナノサイエンス実験棟クリーンルーム内に設置。エピタキシャル・スピンバルブやハーフメタル合金薄膜の作成に使用。
MBE室:到達真空度 < 5 × 10-8 Pa, [クライオポンプ(CP)・イオンポンプ(IP)併用], 6 kW電子銃2基(Co, Fe など)及び3 kW電子銃4基(MgO,Au など) (3元同時蒸着可能), Kセル1基(A1), 高速電子線回折(RHEED), 残留ガス分析器, 基板回転, シャッター微動及び加熱及び加熱( < 1000℃)可能。
準備室:到達真空度 < 1 × 10-5Pa[ターボ分子ポンプ(TMP)使用], O2ガス導入機構。